![湖南玉丰真空科学技术有限公司](http://img.czvv.com/logo/5a4fe6a90cf22e4f3934d32a/5a4fe6a90cf22e4f3934d32a.png)
湖南玉丰真空科学技术有限公司 main business:各类真空镀膜设备及其非标设备、平面阴极、旋转阴极的设计研发、制造和销售;进出口贸易(以上经营范围中凡涉及行政许可的在取得相关许可证或审批后方可经营)。 and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
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- 430300000018407
- 91430300678004312K
- 存续(在营、开业、在册)
- 有限责任公司(自然人投资或控股)
- 2008-07-22
- 李国强
- 800万人民币
- 2008-07-22 至 永久
- 湘潭市工商行政管理局
- 湘潭九华示范区大众东路2号
- 各类真空镀膜设备及其非标设备、平面阴极、旋转阴极的设计研发、制造和销售;进出口贸易(以上经营范围中凡涉及行政许可的在取得相关许可证或审批后方可经营)。
序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
1 | CN206089802U | 一种真空设备的基板加热台 | 2017.04.12 | 一种真空设备的基板加热台。它主要是解决现有工艺繁琐、生产效率低和产品质量不稳定等技术问题。其技术方案 |
2 | CN106477918A | 真空玻璃动态辊压装置 | 2017.03.08 | 一种真空玻璃动态辊压装置。它主要是解决现有厚度不均匀及封实漏真空等技术问题。其技术方案要点是:包括旋 |
3 | CN205934011U | 一种复合扫描磁场镀膜机 | 2017.02.08 | 一种复合扫描磁场镀膜机,它主要是解决现有阴极靶材的利用率低,靶材采购量大,人工投入大等技术问题。其技 |
4 | CN106119811A | 一种真空设备的基板加热台 | 2016.11.16 | 一种真空设备的基板加热台。它主要是解决现有工艺繁琐、生产效率低和产品质量不稳定等技术问题。其技术方案 |
5 | CN106086805A | 一种复合扫描磁场镀膜机 | 2016.11.09 | 一种复合扫描磁场镀膜机,它主要是解决现有阴极靶材的利用率低,靶材采购量大,人工投入大等技术问题。其技 |
6 | CN106091376A | 真空玻璃设备破空热风发生器 | 2016.11.09 | 一种真空玻璃设备破空热风发生器。它主要是解决现有产品低合格率,温差变化大,破空时间长等技术问题。其技 |
7 | CN201301340Y | 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极 | 2009.09.02 | 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极,它属于一种平面磁控溅射阴极。它主要是解决现有平面阴极的靶材利 |
8 | CN201300572Y | 一种多层介质双银层低辐射膜 | 2009.09.02 | 一种多层介质双银层低辐射膜,它属于一种双银层低辐射膜。它主要是解决现有双银层低辐射膜产品不能同时兼顾 |
9 | CN201301339Y | 一种高功率平面磁控溅射阴极 | 2009.09.02 | 一种高功率平面磁控溅射阴极,它属于一种双银层低辐射膜。它主要是解决现有的平面磁控溅射阴极其磁铁浸泡在 |
10 | CN101417520B | 一种多层介质双银层低辐射膜及其生产工艺 | 2012.08.22 | 一种多层介质双银层低辐射膜及其生产工艺,它属于一种双银层低辐射膜及生产工艺。它主要是解决现有双银层低 |
11 | CN101956177B | 用于真空连续镀膜生产线的回转仓 | 2012.08.22 | 一种用于真空连续镀膜生产线的回转仓。它主要是解决现有连续加工设备生产线比较长、成本较高等技术问题。其 |
12 | CN101974733B | 用于真空连续镀膜生产线的回转机构 | 2012.07.04 | 一种用于真空连续镀膜生产线的回转机构。它主要是解决现有连续加工设备生产线比较长、成本较高等技术问题。 |
13 | CN201864773U | 用于真空连续镀膜生产线的回转机构 | 2011.06.15 | 一种用于真空连续镀膜生产线的回转机构。它主要是解决现有连续加工设备生产线比较长、成本较高等技术问题。 |
14 | CN201864774U | 用于真空连续镀膜生产线的回转仓 | 2011.06.15 | 一种用于真空连续镀膜生产线的回转仓。它主要是解决现有连续加工设备生产线比较长、成本较高等技术问题。其 |
15 | CN201827302U | 同步传动机构 | 2011.05.11 | 一种同步传动机构。它主要是解决现有机械同步传动的结构比较复杂,且成本较高、或同步不可靠等技术问题。其 |
16 | CN201824276U | 一种工件夹具 | 2011.05.11 | 一种工件夹具。它主要是解决现有普通槽型夹具容易与工件产生摩擦,既影响工件质量,也浪费能量等技术问题。 |
17 | CN101974733A | 用于真空连续镀膜生产线的回转机构 | 2011.02.16 | 一种用于真空连续镀膜生产线的回转机构。它主要是解决现有连续加工设备生产线比较长、成本较高等技术问题。 |
18 | CN101956786A | 同步传动机构 | 2011.01.26 | 一种同步传动机构。它主要是解决现有机械同步传动的结构比较复杂,且成本较高、或同步不可靠等技术问题。其 |
19 | CN101956177A | 用于真空连续镀膜生产线的回转仓 | 2011.01.26 | 一种用于真空连续镀膜生产线的回转仓。它主要是解决现有连续加工设备生产线比较长、成本较高等技术问题。其 |
20 | CN101954625A | 一种工件夹具 | 2011.01.26 | 一种工件夹具。它主要是解决现有普通槽型夹具容易与工件产生摩擦,既影响工件质量,也浪费能量等技术问题。 |
21 | CN101418432B | 一种高功率平面磁控溅射阴极 | 2010.09.22 | 一种高功率平面磁控溅射阴极,它属于一种双银层低辐射膜。它主要是解决现有的平面磁控溅射阴极其磁铁浸泡在 |
22 | CN101418432A | 一种高功率平面磁控溅射阴极 | 2009.04.29 | 一种高功率平面磁控溅射阴极,它属于一种双银层低辐射膜。它主要是解决现有的平面磁控溅射阴极其磁铁浸泡在 |
23 | CN101418433A | 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极 | 2009.04.29 | 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极,它属于一种平面磁控溅射阴极。它主要是解决现有平面阴极的靶材利 |
24 | CN101417520A | 一种多层介质双银层低辐射膜及其生产工艺 | 2009.04.29 | 一种多层介质双银层低辐射膜及其生产工艺,它属于一种双银层低辐射膜及生产工艺。它主要是解决现有双银层低 |
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